ASML上周已經(jīng)聲明，高端DUV光刻機(jī)可以出口，而這也會(huì)讓他們加快處理相應(yīng)的訂單。

所謂浸沒式光刻機(jī)，屬于193nm（光源）光刻機(jī)（分為干式和浸沒式），可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應(yīng)用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中。

ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款設(shè)備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。

理論上NXT:1980Di依然可以達(dá)到7nm，只是步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會(huì)有損失，晶圓廠用這一臺(tái)光刻機(jī)，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因?yàn)榱悸实停杀靖?，沒什么競(jìng)爭(zhēng)力。

之前，該公司2022年其凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，2022年底未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達(dá)404億歐元。當(dāng)年總共銷售317臺(tái)新光刻機(jī)，較前一年增長(zhǎng)31臺(tái)，此外還出貨了28臺(tái)二手光刻機(jī)。

對(duì)于今年的表現(xiàn)，ASML表示，將會(huì)加快對(duì)一些訂單的處理，特別是高端DUV光刻機(jī)系列，以此來(lái)保證公司業(yè)績(jī)強(qiáng)勁增長(zhǎng)。

文章出處：快科技